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【株式新聞】半導体「EUV」投資が加速

次世代の半導体量産技術「EUV(極端紫外線リソグラフィ)」への投資が加速を始めた。レーザーテック(6920)は検査装置の引き合いが増加。KHネオケム(4189)は高純度溶剤で需要の取り込む。大きな物色テーマに発展しそうだ。

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(画像=PIXTA)

半導体の性能は基板の回路パターンで決まり、より細い線幅でチップ1枚に描く回路を増やすことで容量を拡大できる。EUVは、波長の短い極端紫外線で超極細の線を描写する。「ArF液浸露光」と呼ばれる液体を使った従来の手法の限界を超える新たな微細化技術だ。

EUVによる生産は、半導体の受託製造世界最大手の台湾TSMCが今年4~6月期に開始する。メモリー大手の韓国サムスン電子も来年には着手し、EUV露光装置でトップのASMLホールディング(オランダ)の受注は昨年から活発化している。

日本企業にも需要の波が押し寄せている。回路パターンの原版に当たるフォトマスクの欠陥検査装置を手掛けるレーザーテクは直近、今6月期の半導体関連装置の受注高の見通しを283億円から320億円に引き上げた。「EUV向けはかなり貢献している」(レーザーテクの経営管理室)。

冷媒大手のKHネオケムは、金属などの不純物が極めて少ない溶剤を開発。半導体の製造工程で使われる溶剤は、微細化の進展に伴い品質要求が高まっている。同社の製品は10PPT(1兆分率)以下のレベルで不純物を管理できる。EUV向けでも「既に出荷し始めている」(KHネオケムの広報室)。

株価の中段もちあいからの再浮上をうかがうホロン(7748・JQ)は、EUV導入の動きを背景に業績を伸ばしている。今3月期第3四半期累計の営業損益(非連結)は、5.4億円の黒字(前年同期は0.3億円の赤字)に浮上した。

同社はフォトマスク検査装置のほか、分析用装置を展開。半導体製造装置メーカーが設備投資を強化する中、EUV需要を獲得している。ホロンの親会社のエー・アンド・デイ(=A&D、7745)や、日本電子(6951)もフォトマスク製造装置で攻勢を掛ける。

東洋合成工業(4970・JQ)はEUV向け感光性材料の量産化が進み、新製品が売上高を押し上げる。株価は昨年12月の安値748円をボトムに底打ち感が鮮明だ。

EUV用フォトレジストでJSR(4185)や東京応化工業(4186)にも注目したい。(2月15日株式新聞掲載記事)

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